Study of titanium nitride film growth by plasma enhanced pulsed laser deposition at different experimental conditions

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dc.contributor.authorEscalona Álvarez, Miguel Benito
dc.contributor.authorBhuyan, Heman
dc.contributor.authorIbacache, S.
dc.contributor.authorRetamal Ponce, María José
dc.contributor.authorSaikia, P.
dc.contributor.authorBorgohain, C.
dc.contributor.authorValenzuela Ahumada, Julio César
dc.contributor.authorVeloso Espinosa, Felipe Eduardo
dc.contributor.authorFavre Domínguez, Mario
dc.contributor.authorWyndham Hodder, Edmund Sydenham
dc.date.accessioned2021-06-29T19:45:26Z
dc.date.available2021-06-29T19:45:26Z
dc.date.issued2021
dc.format.extent9 páginas
dc.fuente.origenConveris
dc.identifier.doi10.1016/j.surfcoat.2020.126492
dc.identifier.issn0257-8972
dc.identifier.scopusid2-s2.0-85094830983
dc.identifier.urihttps://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2020.126492
dc.identifier.urihttps://repositorio.uc.cl/handle/11534/60900
dc.information.autorucInstituto de Física ; Escalona Álvarez, Miguel Benito ; S/I ; 1039778
dc.information.autorucInstituto de Física ; Bhuyan, Henan ; 0000-0002-6432-6654 ; 1003913
dc.information.autorucInstituto de Física ; Retamal Ponce, María José ; 140896
dc.information.autorucInstituto de Física ; Valenzuela Ahumada, Julio Cesar ; 0000-0001-8499-4599 ; 140886
dc.information.autorucInstituto de Física ; Veloso Espinosa, Felipe ; 0000-0002-6703-5449 ; 14943
dc.information.autorucInstituto de Física ; Favre Domínguez, Mario Benjamin ; 0000-0002-2146-2920 ; 99732
dc.information.autorucInstituto de Física ; Wyndham Hodder, Edmund Sydenham ; S/I ; 100407
dc.language.isoen
dc.nota.accesoContenido parcial
dc.pagina.final9
dc.pagina.inicio1
dc.revistaSurface and Coatings Technologyes_ES
dc.rightsacceso restringido
dc.titleStudy of titanium nitride film growth by plasma enhanced pulsed laser deposition at different experimental conditionses_ES
dc.typeartículo
dc.volumenVol. 405
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sipa.codpersvinculados99732
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