Décharge capillaire compacte et ultra-brève pour la lithographie UV extrême par projection

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dc.contributor.authorP Choi
dc.contributor.authorFavre Domínguez, Mario
dc.date.accessioned2017-04-10T18:36:10Z
dc.date.available2017-04-10T18:36:10Z
dc.date.issued2001
dc.identifier.doi10.1051/jp4:2001710
dc.identifier.issn1155-4339
dc.identifier.urihttps://doi.org/10.1051/jp4:2001710
dc.identifier.urihttps://repositorio.uc.cl/handle/11534/17305
dc.language.isoen
dc.relation.isformatofJournal de Physique IV. Vol. 11, no. PR7 (2001), p. [29]-30
dc.revistaJournal de Physique IVes_ES
dc.subject.ddc510
dc.subject.deweyMatemática física y químicaes_ES
dc.subject.otherMecánica de fluidoses_ES
dc.subject.otherDinámica de fluidoses_ES
dc.subject.otherFísicaes_ES
dc.titleDécharge capillaire compacte et ultra-brève pour la lithographie UV extrême par projectiones_ES
dc.typeartículo
sipa.codpersvinculados99732
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Décharge capillaire compacte et ultra-bréve pour la lithographie UV extrême par projection.pdf
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