Implementación experimental de un reactor químico de vapor CVD y pruebas de funcionamiento

dc.contributor.advisorRamos Moore, Esteban
dc.contributor.authorSpring Flores, Pablo Andrés
dc.contributor.otherPontificia Universidad Católica de Chile. Facultad de Física
dc.date.accessioned2019-03-08T18:53:55Z
dc.date.available2019-03-08T18:53:55Z
dc.date.issued2019
dc.descriptionTesis (Magíster en Física)--Pontificia Universidad Católica de Chile, 2019
dc.description.abstractEste trabajo presenta dos objetivos generales. Primero, la implementación de un reactor químico de vapor (CVD), y segundo, la generación de protocolos de operación óptimos del sistema. Para lograr los objetivos descritos se trabajó en la etapa de diseño, implementación y pruebas de funcionamiento, logrando el funcionamiento individual e interconectado de las distintas fases del experimento, mejorando los diseños preliminares y optimizando la elección de materiales para la construcción de las distintas etapas de un CVD. Finalmente, se consiguieron los objetivos principales, quedando como trabajo futuro la realización de pruebas de crecimiento de películas delgadas de TiC/TiN sobre sustratos de WC.
dc.format.extentiv, 64 páginas
dc.identifier.doi10.7764/tesisUC/FIS/22324
dc.identifier.urihttps://doi.org/10.7764/tesisUC/FIS/22324
dc.identifier.urihttps://repositorio.uc.cl/handle/11534/22324
dc.language.isoes
dc.nota.accesoContenido completo
dc.rightsacceso abierto
dc.subject.ddc620
dc.subject.deweyIngenieríaes_ES
dc.subject.otherReactores químicos.es_ES
dc.subject.otherCarburos de tungsteno.es_ES
dc.titleImplementación experimental de un reactor químico de vapor CVD y pruebas de funcionamientoes_ES
dc.typetesis de maestría
sipa.codpersvinculados119740
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