High performance next generation EUV lithography light source

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dc.contributor.authorChoi, P.
dc.contributor.authorZakharov, S.V.
dc.contributor.authorAliaga R., Raúl
dc.contributor.authorBenali, O.
dc.contributor.authorDuffy, G.
dc.contributor.authorSarroukh, O.
dc.contributor.authorWyndham, Edmund
dc.contributor.authorZakharov, V.S.
dc.date.accessioned2021-04-07T14:35:31Z
dc.date.available2021-04-07T14:35:31Z
dc.date.issued2009
dc.fuente.origenBibliotecas UC
dc.identifier.doi10.1117/12.814168
dc.identifier.issn1996-756X
dc.identifier.scopusid2-s2.0-67149107757
dc.identifier.urihttps://doi.org/10.1117/12.814168
dc.identifier.urihttps://repositorio.uc.cl/handle/11534/57345
dc.language.isoen
dc.nota.accesoContenido parcial
dc.revistaProceedings Of Spie - The International Society For Optical Engineeringes_ES
dc.rightsacceso restringido
dc.titleHigh performance next generation EUV lithography light sourcees_ES
dc.typecomunicación de congreso
dc.volumenVol. 7271
sipa.codpersvinculados50868
sipa.codpersvinculados100407
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